MURARKA, S. P.: шукати на сайті Z-Library

Журнал:

Рік:

1977

Мова:

english

Файл:

PDF, 628 KB

english, 1977

Advanced multilayer metallization schemes with copper as interconnection metal

S.P. Murarka, R.J. Gutmann, A.E. Kaloyeros, W.A. Lanford

Журнал:

Рік:

1993

Мова:

english

Файл:

PDF, 970 KB

english, 1993

Chemical-mechanical polishing of copper with oxide and polymer interlevel dielectrics

Ronald J. Gutmann, Joseph M. Steigerwald, Lu You, David T. Price, Jan Neirynck, David J. Duquette, Shyam P. Murarka

Журнал:

Contemporary Review of the Middle East

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 608 KB

english, 1995

Russian realpolitik

Murarka, Dev

Журнал:

Survival

Рік:

1966

Мова:

english

Файл:

PDF, 233 KB

english, 1966

SPIE Proceedings [SPIE Microelectronic Manufacturing - Austin, TX (Tuesday 18 October 1994)] Microelectronics Technology and Process Integration - Crystal-free and low-flow-angle ILD by using in situ SACVD/PE BPSG for 0.5-um application

Yen, Hung-Chi, Jin, Ben-Yih, Wong, Cliff, Chow, Peter, Yen, Daniel, Hu, Joseph, Su, Joe S., Wang, Jean, Chen, Fusen E., Murarka, Shyam P.

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 299 KB

english, 1994

Book Review: Asif Shuja (2018). India–Iran Relations: Under the Shadow of the Iranian Nuclear Issue Challenges for India’s Diplomacy AsifShuja (2018). India–Iran Relations: Under the Shadow of the Iranian Nuclear Issue Challenges for India’s Diplomacy. New Delhi: Indian Council for World Affairs and Knowledge World. Hardback. ISBN: 978-93-87324-15-2. Price: INR 1,080. 234 pp.

Murarka, Rachit Kumar

Журнал:

Рік:

2018

Мова:

english

Файл:

PDF, 218 KB

english, 2018

ChemInform Abstract: Transition-Metal-Free Sonogashira-Type Coupling of ortho-Substituted Aryl and Alkynyl Grignard Reagents by Using 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine-N-oxyl Radical as an Oxidant.

Modhu Sudan Maji, Sandip Murarka, Armido Studer

Журнал:

ChemInform

Рік:

2010

Файл:

PDF, 32 KB

2010

Diffusion of chromium in aluminium

R.P. Agarwala, S.P. Murarka, M.S. Anand

Журнал:

Acta Metallurgica

Рік:

1964

Мова:

english

Файл:

PDF, 472 KB

english, 1964

Diffusion of vanadium in aluminium and nickel

S.P. Murarka, M.S. Anand, R.P. Agarwala

Журнал:

Acta Metallurgica

Рік:

1968

Мова:

english

Файл:

PDF, 399 KB

english, 1968

R.F. diode sputtered platinum films

S.P. Murarka

Журнал:

Рік:

1974

Мова:

english

Файл:

PDF, 645 KB

english, 1974

Codeposited silicides in very-large-scale integration

Shyam P. Murarka

Журнал:

Рік:

1986

Мова:

english

Файл:

PDF, 889 KB

english, 1986

Integration of copper multilevel interconnects with oxide and polymer interlevel dielectrics

Ronald J. Gutmann, T.Paul Chow, S. Lakshminarayanan, David T. Price, Joseph M. Steigerwald, Lu You, Shyam P. Murarka

Журнал:

Weidan Li, Dong Wook Shin, Minoru Tomozawa, Shyam P. Murarka

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 895 KB

english, 1995

The effect of the polishing pad treatments on the chemical-mechanical polishing of SiO2 films

Журнал:

Journal of Electronic Materials

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 648 KB

english, 1995

Chemical-Mechanical polishing of parylene- n films: evaluation by X-Ray photoelectron spectroscopy and atomic force microscopy

G. -R. Yang, Y. -P. Zhao, Jan M. Neirynck, Shyam P. Murarka, Ronald J. Gutmann

Журнал:

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 688 KB

english, 1997

Materials aspects of copper interconnection technology for semiconductor applications

Murarka, S.P.

Журнал:

Materials Science and Technology

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 263 KB

english, 2001

Chemical processes in the chemical mechanical polishing of copper

J.M. Steigerwald, S.P. Murarka, R.J. Gutmann, D.J. Duquette

Журнал:

Materials Chemistry and Physics

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.54 MB

english, 1995

Damascene copper interconnects with polymer ILDs

David T Price, Ronald J Gutmann, Shyam P Murarka

Журнал:

Annual Review of Materials Science

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 685 KB

english, 1997

Transition Metal Silicides

Murarka, S P

Журнал:

Рік:

1983

Мова:

english

Файл:

PDF, 679 KB

english, 1983

Silicide thin films and their applications in microelectronics

Shyam P. Murarka

Журнал:

Intermetallics

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.69 MB

english, 1995

Lewis Acid Catalyzed Formation of Tetrahydroquinolines via an Intramolecular Redox Process

Murarka, Sandip, Zhang, Chen, Konieczynska, Marlena D., Seidel, Daniel

Журнал:

Organic Letters

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 274 KB

english, 2009

Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials || Frontmatter

Steigerwald, Joseph M., Murarka, Shyam P., Gutmann, Ronald J.

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.01 MB

english, 1997

Catalytic Enantioselective Intramolecular Redox Reactions: Ring-Fused Tetrahydroquinolines

Murarka, Sandip, Deb, Indubhusan, Zhang, Chen, Seidel, Daniel

Журнал:

Journal of the American Chemical Society

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 362 KB

english, 2009

Elastic and viscoelastic analysis of stress in thin films

Liu, H. C., Murarka, S. P.

Журнал:

Journal of Applied Physics

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 896 KB

english, 1992

Interlayer Dielectrics for Semiconductor Technologies || Dielectric properties

Murarka, S.P.

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 317 KB

english, 2003

Phenyl Hydrazine as Initiator for Direct Arene C–H Arylation via Base Promoted Homolytic Aromatic Substitution

Dewanji, Abhishek, Murarka, Sandip, Curran, Dennis P., Studer, Armido

Журнал:

Organic Letters

Рік:

2013

Мова:

english

Файл:

PDF, 219 KB

english, 2013

Transition Metal Silicides—Low Resistivity Alternatives for Polysilicon and Metals in Integrated Circuits

Shyam P. Murarka

Журнал:

JOM Journal of the Minerals, Metals and Materials Society

Рік:

1984

Мова:

english

Файл:

PDF, 636 KB

english, 1984

Beacon Splits in Air Traffic Control Radar Beacon System (ATCRBS)

Murarka, Narayan, Toulios, Peter, Lanera, Domenico

Журнал:

IEEE Transactions on Aerospace and Electronic Systems

Рік:

1975

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.14 MB

english, 1975

Oxidation induced stacking faults in n- and p-type (100) silicon

Murarka, S. P., Quintana, G.

Журнал:

Journal of Applied Physics

Рік:

1977

Мова:

english

Файл:

PDF, 671 KB

english, 1977

Diffusion and segregation of ion-implanted boron in silicon in dry oxygen ambients

Журнал:

Рік:

1975

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.39 MB

english, 1975

Role of point defects in the growth of the oxidation-induced stacking faults in silicon. II. Retrogrowth, effect of HCl oxidation and orientation

Журнал:

Рік:

1980

Мова:

english

Файл:

PDF, 734 KB

english, 1980

Erratum: Role of point defects in the growth of the oxidation-induced stacking faults in silicon

Журнал:

Рік:

1978

Мова:

english

Файл:

PDF, 44 KB

english, 1978

Refractory silicides for integrated circuits